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光刻机巨头扩产，占地35公顷 面对人工智能（AI）热潮带来的强劲需求，荷兰光刻机制造商阿斯麦（ASML）当地时间9月8日宣布，将在荷兰动工建设一座新的大型生产园区，以扩大产量。 根据该公司发布的新闻稿，新设施BIC North位于埃因霍温机场附近，占地35公顷（约合35万平方米），距离阿斯麦费尔德霍芬总部和主要生产基地约7公里。 整个项目将分阶段建设，最终可创造约2万个工作岗位。预计2029年完工的一期工程将至少容纳3000名员工，涵盖生产、物流以及配套办公设施，其中包括用于专业设备制造的无尘室。 阿斯麦还将在新园区引入新制造模式“流动工厂”（Flow Factory），用于其旗舰光刻平台Twinscan。新制造模式通过借鉴汽车、航空航天等行业的成熟生产方式，重新设计物料和生产流程，以提高光刻设备模块生产和装配的效率。 阿斯麦是全球唯一一家EUV（极紫外）光刻机供应商，而EUV光刻机是生产尖端芯片必不可少的制造设备。 目前，该公司已成为欧洲最具价值的公司，市值达到6600亿美元，今年以来股价上涨62%。 台积电、三星、SK海力士、美光、英特尔等芯片厂商均是阿斯麦客户。随着英伟达、OpenAI、谷歌、亚马逊、Anthropic等科技企业持续加码AI算力基础设施，上游芯片厂商也在扩大先进制程和存储芯片产能，进而拉动对阿斯麦高端光刻设备的需求。 阿斯麦7月表示，其EUV光刻设备的产能在2027年底前，已几乎全部被预订。 9月8日，阿斯麦还连发三条公告宣布，与台积电、三星电子和英特尔共同推进高数值孔径（High NA）EUV光刻技术应用。 其中，台积电计划自2030年起将阿斯麦High NA用于先进制程大规模生产；三星计划于2028年前首次将High NA用于DRAM大规模生产；英特尔则表示，目前已处理超过100万片采用High NA相关技术的晶圆。 公开资料显示，High NA EUV光刻机是阿斯麦最新一代光刻机设备，数值孔径提升至0.55，分辨率大幅提升，可实现更精密的电路图案加工。这意味着，该设备可以帮助芯片制造商继续微缩晶体管，从而制造更先进的芯片。 本文系观察者网独家稿件，未经授权，不得转载。 特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。 Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services. 半岛都市报 2026-09-09 07:35:10 潇湘晨报 2026-09-08 19:10:47 红星资本局 2026-09-08 18:53:05 上观新闻 2026-09-09 11:35:29 都市快报橙柿互动 2026-09-09 11:41:44 澎湃新闻 2026-09-08 23:14:11 中国新闻周刊 2026-09-09 17:01:18 新华社 2026-09-08 17:45:02 大风新闻 2026-09-09 10:42:04 闪电新闻 2026-09-09 14:58:38 上观新闻 2026-09-08 19:43:38 中国能源网 2026-09-09 08:15:10 政知新媒体 2026-09-09 15:28:16 第一财经资讯 2026-09-07 13:22:17 中国经营报 2026-09-09 06:57:31 国家统计局 2026-09-09 09:33:56 农视网 2026-09-09 17:07:39 农视网 2026-09-09 17:21:38 我是一个粉刷匠2 2026-09-09 17:32:53 评底郭 2026-09-09 17:34:44

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